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功能性涂層鍍膜設備
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設備定制化生產，具有靈活的配置，可集成多種沉積方式，離子弧、濺射、HiPIMS、RF等，適應特殊涂層及新行業應用需求，為新涂層，新材料的開發提供更多的可能性。設備具有沉積速率快，膜層一致性好，生產過程無污染等特點，從而解決客戶對產品的要求。我們行業經驗豐富，為客戶提供交鑰匙服務，解決客戶所需。
優點優勢
等離子密度非常高；
涂層結合力強；
顯微鏡下膜層致密，無孔洞；
高耐磨性；
技術指標
設備型號 | SP-0810ASI | SP-1112ASI | SP-1215ASI | SP-1512AI |
真空室尺寸（mm） | 800×1000 | 1100×1200 | 1200×1500 | 1500×1200 |
極限真空 | 6.0E-4Pa | |||
抽氣時間 | 空載大氣至5.0E-3Pa小于15分鐘 | |||
壓升率 | 1h≤0.5Pa | |||
真空泵組 | 機械泵+羅茨泵+分子泵+維持泵 | |||
加熱系統 | 常溫至500℃可調可控（PID控溫） | |||
加氣系統 | 質量流量控制儀（1-4路） | |||
靶架構 | 圓弧靶、Cloud弧、濺射靶、氣體離子源、蒸發源 | |||
電源類型 | 弧電源、高壓轟擊偏壓電源、HiPIMS濺射電源、SPA電源、射頻電源等 | |||
工件旋轉方式 | 公自轉+二次自轉 變頻可控可調1-5轉/分 | |||
控制方式 | 手動+半自動+全自動一體化+PLC+IPC | |||
備注 | 設備各配置指標可按客戶產品及特殊工藝要求定制 | |||
應用領域
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